Изучение процесса шлифования и полировки глиноземной пьезой керамической субстраты

Благодаря быстрому развитию оптоэлектронных технологий и микроэлектронных технологий, она все более и более срочная для электронныхпьезой керамикаИспользовать в суровой среде, включая высокую температуру, высокую влажность, электрическую прочность, высокую интенсивность излучения. Как часто используемые материалы в электронной керамике, Alzo} Ceramics имеет много превосходных характеристик, таких как высокотемпературная стойкость, коррозионная стойкость, высокая механическая прочность, высокая твердость, высокая электрическая изоляция и низкая диэлектрическая потери и т. Д. A1Z03 Ceramics привлекла широкое внимание и исследования с широкой перспективой применения в аспектах электроники, электронную мощность, биологическую медицину и амацию. A1Z03 Технология производства керамических материалов в основном включает в себя подготовку керамической технологии субстрата и поверхность керамической подложки технологии резки и обработки. Две части необходимы для формирования и использования субстрата, в которой поверхность технологии обработки субстрата является основой и гарантией производства электронных компонентов. Из -за высокой твердости и хрупкости, простых в производстве трещин, трудности для поверхности обработки, субстрат керамики трудно гарантировать качество и целостность поверхности и подповерхности. И поверхностный процесс пьезоэлектрического керамического материала A1Z03 не только требует высокой точки зрения и точности формы, но и низкой шероховатости поверхности и хорошей целостности поверхности, но также требует сверхгластной поверхности без дефектов и повреждения FC применение керамического субстрата A1Z03. Следовательно, для технологии подготовки материала субстрата она является ключом и тенденцией развития реализации поверхностного ультра гладкого и плоского керамического субстрата A1Z03.

Влияние параметров обработки на эффективную прореживание и сверхгластную полировку A1Z03Пьезоцерамическая трубка датчикаПодложка систематически изучалась в этой статье. Был проведен систематический эксперимент керамической субстрата A1Z03 с использованием оборудования для шлифования и полировки с одной стороны и двухбоя и концентрация абразивной шлифовальной жидкости на эффективном истончении керамического субстрата A1Z03 и параметров процесса были оптимизированы. При условии тех же параметров процесса влияние односторонней и двухсторонней полировки на эффективность полировки и шероховатость поверхности керамического субстрата AIZO} изучалось сравнительно. Результаты теста показывают, что метод одностороннего шлифования и обработки полировки может получить более высокий уровеньМатериал PZT пьезокерамический преобразовательЭффективность удаления и лучшая поверхность. Качество обработки.